Environmentally Resistant Mo-Si-B-Based Coatings
نویسندگان
چکیده
منابع مشابه
Mo-Si-B Alloy Development
Alloys consisting of the phases α-Mo (Mo solid solution), Mo3Si, and Mo5SiB2 (“T2”) were fabricated by ingot and powder metallurgy. A novel powder-metallurgical processing technique was developed which allows the fabrication of silicide alloys with a continuous α-Mo matrix. In these alloys the relatively ductile and tough α-Mo matrix acts as a “binder” for brittle silicide particles. An alloy p...
متن کاملارزیابی ساختاری پوشش پاشش حرارتی Mo-Si-B
در این تحقیق ترکیب پودری %atB10-%atSi14-%atMo76 به کمک آسیاب سایشی و در شرایطی ویژه، آلیاژسازی مکانیکی شد. پودرهای حاصله در قالب فلزی، فشرده شده و به مدت 10 ساعت در دمای °C1100 تحت عملیات آنیل نفوذی خنثی قرار گرفتند؛ سپس قرص‌های زینتر شده کاملاً خورد شده و پس از دانه‌بندی، به کمک روش پاشش حرارتی APS در شرایط حفاظت شده و حفاظت نشده، بر روی زیرلایه‌هایی از فولاد معمولی قرار گرفتند. خصوصیات فازی و ...
متن کاملOptimizaton of Mo-Si-B Intermetallic Alloys
Mo-Si-B intermetallics consisting of the phases Mo3Si and Mo5SiB2, and a molybdenum solid solution (“ -Mo”), have melting points on the order of 2000 °C. These alloys have potential as oxidationresistant ultra-high-temperature structural materials. They can be designed with microstructures containing either individual -Mo particles or a continuous -Mo phase. A compilation of existing data shows...
متن کاملساخت و ارزیابی خواص تریبولوژیکی قطعات آلیاژی Mo-Si-B
در این تحقیق ترکیبات پودری Mo76Si - 14B - 10 و Mo30Si –47B - 23 (بر حسب درصد اتمی) توسط آسیاب گلوله‌ای سایشی با سرعت ساینده rpm 365 در محیط کاملاً خنثی و آبگرد در زمان 20 ساعت تحت عملیات آلیاژسازی مکانیکی قرار گرفتند، پودرهای آسیاب‌کاری شده پس از گاز‌زدایی در دمای C°450 به‌مدت 2 ساعت، بصورت قطعات دیسکی شکل با قطر mm25 درآمده و در دماهای C°1100- C°1400 توسط کوره مقاومتی لوله‌ای ت...
متن کاملLifetime Studies of Mo/Si and MO/Be Multilayer Coatings for Extreme Ultraviolet Lithography
Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) is a candidate for future application by the semiconductor industry in the production of sub-100 nm feature sizes in integrated circuits. Using multilayer reflective coatings optimized at wavelengths ranging from 11 to 14 nm, EUVL represents a potential successor to currently existing optical lithography techniques. In order to assess lifetimes of the mult...
متن کاملذخیره در منابع من
با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید
ژورنال
عنوان ژورنال: Journal of Thermal Spray Technology
سال: 2017
ISSN: 1059-9630,1544-1016
DOI: 10.1007/s11666-017-0565-2